光刻机的对准系统的精度,对光刻机的芯片曝光有很大的影响
目前国内的对准系统研究的精度,勉强可以应用要1.5微米的制造工艺上
不过,要特别注明的一点就是,在欧美日,此时已经实现了光刻机上的自动对焦,而国内只能是手动对准
别人的光刻机,单位时间能曝光两百多块晶圆片,而国产的只能曝光十几块
这意味着我们自家生产的,只能在实验室里用用,无法投入到商业应用当中,不然,这成本就能拖死一家芯片加工厂
光刻机的对准系统的精度,对光刻机的芯片曝光有很大的影响
绝命毒尸:1384 新书《差一步苟到最后》开更 发表于 2021-01-05 04:55:24目前国内的对准系统研究的精度,勉强可以应用要1.5微米的制造工艺上
洪荒关系户:番外篇,诸圣告离 发表于 2022-03-15 00:02:00不过,要特别注明的一点就是,在欧美日,此时已经实现了光刻机上的自动对焦,而国内只能是手动对准
我见银河:番外完 发表于 2019-08-12 20:51:53别人的光刻机,单位时间能曝光两百多块晶圆片,而国产的只能曝光十几块
在明末的我自由穿越阳神:新书万界缔造已发。 发表于 2022-07-15 11:58:24这意味着我们自家生产的,只能在实验室里用用,无法投入到商业应用当中,不然,这成本就能拖死一家芯片加工厂
时光复盘手:完本感言 发表于 2020-04-01 02:03:19